【台湾】IPニュース JAW-HWA INTERNATIONAL PATENT & TRADEMARK & LAW OFFICES
台湾での知財関連のトピックをお知らせいたします。
特許：
・2020年の意匠審査基準の改正の主要点
商標：
・下位概念の商品における商標の使用は、その上位概念の商品における使用を満たすとみなされる。
IP FAQs：
・特許出願時に出願人名を空白して出願できるか等
詳細は、下記のJAW-HWAの英文Newsletterをご参照ください。
本掲載にあたって、弊所はJAW-HWAの許可を得ております。