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知財ニュース

【台湾】IPニュース JAW-HWA INTERNATIONAL PATENT & TRADEMARK & LAW OFFICES

台湾での知財関連のトピックをお知らせいたします。

特許:
・2020年の意匠審査基準の改正の主要点

商標:
・下位概念の商品における商標の使用は、その上位概念の商品における使用を満たすとみなされる。

IP FAQs:
・特許出願時に出願人名を空白して出願できるか等

詳細は、下記のJAW-HWAの英文Newsletterをご参照ください。
本掲載にあたって、弊所はJAW-HWAの許可を得ております。

JAW-HWA INTERNATIONAL HP
2020年11月19日更新
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